美國(guó)ACM RESEARCH 單片清洗設(shè)備
主要優(yōu)勢(shì)
清洗藥液獨(dú)立控制,無(wú)交叉污染
噴嘴精確控制系統(tǒng)
準(zhǔn)確的化學(xué)藥液供給
較低的使用成本
優(yōu)質(zhì)清洗效果
可應(yīng)用不同種晶圓清洗工藝
高產(chǎn)出
對(duì)小顆粒的管控和金屬管控能力
特性和規(guī)格
多可配置8套清洗腔體
多可配置5種藥液進(jìn)行清洗工藝,RCA藥液,氫氟酸,臭氧水,去離子水等。
可對(duì)基板片,外延片的清洗工藝